在三天前，XS线凸透镜材料也获得了突破X进展，成功实现了XS线激光99.998%的聚焦。
材料研究所所长马知力、神光仪器总裁高致远、激光实验室主任秦长歌，还有光机所的合作组组长刘瑞新，都围绕着一台光刻机在调试设备。
h明哲走过来问道：“情况如何?”
“社长，我们上午测试了两次，光刻出来的光栅可以达到10纳米和9纳米，现在正在调试8纳米级别。”高致远兴奋的回道。
而来支援神光仪器的刘瑞新此时也是晕乎乎的，他之前只知道神光仪器在研发XS线光刻机，却没有想到神光仪器已经做到这个地步。
国内的上沪中微电子的情况，光机所一清二楚，毕竟双方经常有合作，现在国内可以实现的光刻机，其JiNg度最多只有40纳米。
而这个名不见经传的神光仪器，却一步登天，成功将光刻JiNg度推进到10纳米之内，一举反超阿斯麦公司超紫外光光刻机的13.7纳米。
现在国内的蚀刻机并不弱於外国，也就是说神光仪器的光刻机，一下填补了华国芯片制造行业的两个致命弱点，光刻机和光刻胶。
显然神光仪器前途不可限量。
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